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低溫恒溫循環(huán)器 我有新說法
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低溫恒溫循環(huán)器常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

簡介

提供-40℃~105℃溫度范圍內的高、低恒溫液體,以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。

特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。

*的內循環(huán)和外循環(huán)泵系統,內循環(huán)使儀器溫度均勻恒定,外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器,直接進行高低溫試驗或測試,實現一機多用

主要特點

●風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

●微機智能控制,溫度精確溫度。

●數顯分辨率0.1℃或0.01℃,具有溫度測量值偏差修正功能。

●溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

●制冷系統過熱、過流自動保護。

技術參數

型號

溫度范圍

(℃)

數顯分辨率

(℃)

溫度波動度

(℃)

槽容積(L)

循環(huán)泵流量

(L/min)

外型尺寸

(mm)

HX-08

0~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-010

0~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-015

0~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-020

0~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-030

0~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-0508

-5~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-0510

-5~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-0515

-5~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-0520

-5~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-0530

-5~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-1008

-10~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-1010

-10~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-1015

-10~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-1020

-10~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-1030

-10~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-1508

-15~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-2008

-20~105

0.01

±0.05

8

16

320×370×670

HX-2010

-20~105

0.01

±0.05

10

18

320×370×770

HX-2015

-20~105

0.01

±0.05

15

16

320×370×770

HX-2020

-20~105

0.01

±0.05

20

16

400×450×980

HX-2030

-20~105

0.01

±0.05

30

16

440×550×1000

HX-3008

-30~105

0.01

±0.1

8

16

320×370×770

HX-3010

-30~105

0.01

±0.1

10

18

320×370×770

HX-3015

-30~105

0.01

±0.1

15

16

320×370×670

HX-4008

-40~105

0.1

±0.1

8

16

400×450×850

HX-4015

-40~106

0.1

±0.1

15

16

400×450×980

參考資料

參考資料編輯區(qū)域


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