精準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，始于耗材—NexION 5000 ICP-MS耗材產(chǎn)品在分析高純度硅基質(zhì)中痕量污染物的應(yīng)用

來源：珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司 2025年05月09日 11:32

　　在地球的地殼中，硅酸鹽礦物占據(jù)了90%以上的比例，使得硅成為僅次于氧的第二大豐富元素，按質(zhì)量計(jì)算約占28%。大約20%的硅礦物被提煉至冶金級別的純度，而其中的一小部分更是被進(jìn)一步精煉至半導(dǎo)體級別的超高純度，通常達(dá)到99.9999999%或更高。自20世紀(jì)末至21世紀(jì)初，硅在工業(yè)領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用，對全球經(jīng)濟(jì)產(chǎn)生了深遠(yuǎn)的影響，特別是在半導(dǎo)體電子工業(yè)中，高純工業(yè)硅對于晶體管和集成電路芯片的生產(chǎn)至關(guān)重要。

珀金埃爾默NexION 5000 ICP-MS

　　ICP-MS是靈敏、準(zhǔn)確的痕量元素分析技術(shù)。NexION® 5000多重四極桿ICP-MS將新穎的第二代三錐接口(TCI)與OmniRing技術(shù)、專有等離子發(fā)生器，LumiCoil射頻線圈、具有動(dòng)態(tài)帶通調(diào)諧功能的通用池技術(shù)以及多重四極桿技術(shù)整合在一起，增強(qiáng)了儀器的分析性能、靈敏度以及可靠性。

檢測過程中涉及的
耗材產(chǎn)品信息請參考下表：

　　NexION 5000 ICP-MS技術(shù)能夠精確分析高純度硅基質(zhì)中的痕量污染物，確保硅材料的超高純度，提高了分析效率，還有助于減少對環(huán)境的影響，是實(shí)現(xiàn)綠色科技的重要工具。

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