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詳細介紹
產(chǎn)品詳情
單蒸發(fā)皿程控鍍膜儀
基于客戶需求設計的一款針對電極制備和有機物發(fā)光LED的鍍膜設備，較常規(guī)產(chǎn)品，該產(chǎn)品新增旋轉樣品臺和程序控溫功能。精確控制溫度200℃-1500℃，較大可蒸鍍直徑50mm薄膜樣品，可用于制備金屬薄膜和有機物薄膜。
產(chǎn)品特點
光潔真空腔室：采用直徑210mm石英腔室，易清潔和放入樣品；
旋轉樣品臺：可獲得更均勻的薄膜樣品；
鎢絲加熱：采用特制鎢絲加熱器，較高溫度可達1500℃；
真空：內(nèi)置分子泵機組，可獲取更高真空；
自動/手動模式：控溫模式可選，手動加程序控溫可隨意選擇。
技術參數(shù)：
項目/型號 ECH - 1500 -Ⅰ 較高溫度 1500℃（短期） 長期使用溫度 1450℃ 控溫方式 手動、30段程序控溫; 樣品臺轉速 30rpm 加熱形式 鎢絲 蒸發(fā)源數(shù)量 單個（其他可定制） 進氣口 φ6mm卡套，可通入惰性氣體保護; 真空 極限真空5.0*10-5torr 較大功率 1.5kW 加熱較大電流 15A 外形尺寸 750*600*1350mm
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