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詳細(xì)介紹
詳細(xì)說(shuō)明
XDV-SDD型儀器是FISCHER產(chǎn)品中性能強(qiáng)大的X射線熒光儀器之一。它配備了特別加大的硅漂移探測(cè)器（SDD）。50mm²的探測(cè)器窗口確保能快速而精確地測(cè)量甚至是小面積的測(cè)量點(diǎn)。此外，儀器還配備了各種不同的濾波片，從而能為不同的測(cè)量任務(wù)建立化的激發(fā)條件。
特點(diǎn)：
● 配備了高性能的X射線管和大窗口的硅漂移探測(cè)器（SDD），能高精度地測(cè)量薄的鍍層
● 極耐用的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，能以極出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性用于連續(xù)測(cè)量
● 可編程XY平臺(tái)和Z軸，用于自動(dòng)化連續(xù)測(cè)量
● 擁有實(shí)時(shí)的視頻顯示和輔助激光點(diǎn)，使得樣品定位變得快速而簡(jiǎn)便
應(yīng)用：
鍍層厚度測(cè)量
● 測(cè)量極薄鍍層，如電子和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中厚度小于0.1um的Au和Pd鍍層
● 測(cè)量汽車制造業(yè)中的硬質(zhì)涂層
● 光伏產(chǎn)業(yè)中的鍍層厚度測(cè)量
材料分析
● 電子、包裝和消費(fèi)品中按照RoHS, WEEE, CPSIA等指令對(duì)有害物質(zhì)（如重金屬）進(jìn)行鑒別
● 分析黃金和其他貴金屬及其合金
● 測(cè)定功能性鍍層的組分，如NiP鍍層中的P含量
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