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EM-09100IS 離子切片儀

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更新時(shí)間:2021-07-16 20:36:37瀏覽次數(shù):203

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日本JEOL EM-09100IS 離子切片儀,用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度(0到6)的氬離子束通過(guò)遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也,對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。

詳細(xì)介紹

EM-09100IS 離子切片儀

用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過(guò)遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也,對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。

· 產(chǎn)品規(guī)格

EM-09100IS

離子加速電壓

1 ~ 8kV

傾斜角

Up to 6°(0.1°/步)

離子束直徑

500μm(FWHM)

Milling rate

5m/min (加速電壓:8 kV, Si換算)

使用氣體

氬氣

樣品尺寸

2.8mm(長(zhǎng)度)×0.5 mm(寬度)×0.1mm(厚度)

壓力測(cè)試

潘寧規(guī)

主抽真空系統(tǒng)

渦輪分子泵

CCD相機(jī)

內(nèi)置

尺寸 重量

主機(jī)

500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、63kg

機(jī)械泵

150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg

液晶顯示器

326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg

· 安裝條件

EM-09100IS

電源

單相, AC100 ~ 120V, 50/60Hz, 500 ~ 600VA

接地線

獨(dú)立地線(100Ω以下)

氬氣

使用壓力: 0.15±0.05MPa(1.0 ~ 2.0kg/cm2)
氬氣流量:約0.2立方厘米
純度: 99.9999%以上 (氬氣、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備)
金屬配管連接口:JISB0203 RC1/8

室溫

20 ~ 25℃(fluctuation: 1°C/hor less變動(dòng)少于1°C/h)

濕度

60% 以下

· *請(qǐng)?zhí)峁┌卜旁O(shè)備的桌子。

· *產(chǎn)品外觀及技術(shù)規(guī)格可能未經(jīng)預(yù)告而有所變更。

產(chǎn)品特點(diǎn):

· 用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創(chuàng)新方法

· 離子切片儀制備薄膜樣品除了需要將樣品切成矩形薄片外,不需要溶劑或化學(xué)試劑及前處理(打磨或凹坑研磨),比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度(0°到6°)的氬離子束通過(guò)遮光帶照射樣品,大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也,對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。

· 主要特點(diǎn):

· 高質(zhì)量的透射電鏡樣品的前處理

· 快速制備

· 無(wú)需復(fù)雜的前處理

· 最小限度的表面損傷

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