EDI即Electrodeionization的縮寫，它是一種將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合在一起的脫鹽新工藝。

1986年商用EDI出現(xiàn)于制藥行業(yè)

★二十世紀(jì)九十年代大型商用EDI開始在化學(xué)和半導(dǎo)體行業(yè)被使用

★新一代EDI設(shè)備誕生于1997年

★進(jìn)入2000年以來，在北美及歐洲EDI已占據(jù)了超純水設(shè)備相當(dāng)部分的市場(chǎng)

★自2005年,EDI在國(guó)內(nèi)得到越來越廣泛的認(rèn)可和應(yīng)用。

水處理工業(yè)的**

連續(xù)電除鹽裝置和傳統(tǒng)離子交換相比，EDI 所具有的優(yōu)點(diǎn)：

☆無再生污水及污水處理設(shè)施

☆節(jié)省反沖和清洗用水，高產(chǎn)率生產(chǎn)超純水

☆EDI 再生時(shí)不需要停機(jī)

☆提供穩(wěn)定的水質(zhì)

☆耗能低

☆操作管理方便，勞動(dòng)強(qiáng)度小

☆安裝簡(jiǎn)單，運(yùn)行、維護(hù)費(fèi)用低廉

☆濃水可做軟化水，提高了水的利用率

EDI 組件結(jié)構(gòu)

Ø淡水室

Ø濃水室

Ø極水室

Ø絕緣板

Ø電源及水路連接

EDI高純水設(shè)備進(jìn)水條件

以下是保證EDI正常運(yùn)行的*低條件，為了使系統(tǒng)運(yùn)行結(jié)果更佳，設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)適當(dāng)提高標(biāo)準(zhǔn)。

給水：RO純水，電導(dǎo)率為1-40μS/cm（以25度時(shí)NaCl溶液計(jì)）。一般應(yīng)經(jīng)過單級(jí)反滲透+軟化或者雙級(jí)反滲透處理。
TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm.

pH ：6.0～9.0（*佳電阻率性能對(duì)應(yīng)的pH范圍為 7.0～9.0 ）。

溫度： 5-35°C（41-95°F）。

進(jìn)水壓力：*大為4bar（60psi）。

出水壓力：濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。

硬度（以CaCO3計(jì)）：進(jìn)水硬度<0.1 ppm，回收率是95%；進(jìn)水硬度0.1-0.5 ppm，回收率是90%；進(jìn)水硬度0.5-0.75 ppm，回收率是80-85%；當(dāng)入水硬度為0.75-1ppm時(shí)，需要得到廠家認(rèn)可 。

有機(jī)物：*大為0.5 ppm TOC，建議值為零。

氧化劑：*大為0.05 ppm(Cl2)，0.02 ppm(O3)。

變價(jià)金屬：Fe*大為0.01 ppm，Mn*大為0.01 ppm。

二氧化硅 ：小于0.5 ppm。

二氧化碳的總量：二氧化碳含量將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2 大于10 ppm， EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)水?？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)反滲透進(jìn)水 pH 值或使用脫氣裝置來降低CO2 量。

EDI高純水設(shè)備調(diào)試

Ü準(zhǔn)備工作

•如果采用了脫氣、RO+軟化工藝，必須做好著以下兩部分的調(diào)試工作

Ü準(zhǔn)備工作

脫氣注意事項(xiàng)：

如果采用脫氣膜+吹氣方式時(shí)，必須對(duì)空氣進(jìn)行0.22um**過濾

Ü準(zhǔn)備工作

當(dāng)采用RO+軟化+EDI的方式時(shí)，必須對(duì)樹脂的進(jìn)行清洗處理，方法如下：

水洗，3%HCl浸泡24小時(shí)

水洗，1%NaOH+5%NaCl浸泡24小時(shí)

水洗，3%HCl浸泡24小時(shí)

正常再生

注意：再生時(shí)鹽的鐵錳含量必須低于5ppm

Ü開機(jī)準(zhǔn)備

•仔細(xì)閱讀操作手則。

•檢查系統(tǒng)管路，保證連接正確、完畢。

•檢查電路系統(tǒng)，保證連接正確、完畢。

•檢查儀表系統(tǒng)，保證連接正確、完畢

•調(diào)試給水泵及濃水泵。

•逐個(gè)調(diào)試整流單元

•校準(zhǔn)、設(shè)置儀表

•調(diào)試自動(dòng)控制系統(tǒng)及各流量、壓力開關(guān)

•上述工作完成后，用水沖洗系統(tǒng)管路，準(zhǔn)備系統(tǒng)開機(jī)。

注意：上述所有過程膜組件都必須處于斷電狀態(tài)

Ü系統(tǒng)啟動(dòng)

1、開EDI系統(tǒng)控制電源。

2、啟EDI給水泵

3、察EDI入水電導(dǎo)率，超過設(shè)定值時(shí)，自動(dòng)排放，如合格，入水電閥打開，排水電閥關(guān)閉，如不符合以上描述，需檢查電導(dǎo)儀，并重新設(shè)置

4、慢打開濃水補(bǔ)水閥，待水充滿濃水室后，打開濃水排氣閥，當(dāng)有大量水連續(xù)排除時(shí)，關(guān)閉排氣閥

5、啟濃水循環(huán)泵

6、純水、濃水、極水管道實(shí)行脈沖供水以進(jìn)一步從EDI系統(tǒng)中排出空氣

7、節(jié)純水流量、濃水流量、濃水排放流量、極水流量達(dá)到設(shè)計(jì)范圍

8、EDI電源打開,使EDI盡快供電.

9、節(jié)純水入口壓力比濃水入口壓力高0.3-0.5kg/cm2，純水出口壓力比濃水出口壓力高0.5-0.7 kg/cm2.避免濃差滲透影響產(chǎn)水水質(zhì).

10、節(jié)濃水電導(dǎo)率在300us/cm左右.

11、節(jié)電流至規(guī)定值,且設(shè)置至電流模式.

12、運(yùn)行記錄表,做詳細(xì)記錄

12.

Ü系統(tǒng)關(guān)機(jī)

1、EDI模塊電源“電流調(diào)節(jié)”至“0”,然后關(guān)斷

2、斷EDI給水泵、濃水循環(huán)泵電源

3、閉EDI系統(tǒng)控制電源

EDI高純水設(shè)備停機(jī)維護(hù)

Ü短期停機(jī)

1、須關(guān)斷電源供電

2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵

3、水閥、出水閥必須關(guān)閉

4、組件不脫水干燥

Ü短期停機(jī)

1、須關(guān)斷電源供電

2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵

3、水閥、出水閥必須關(guān)閉

4、組件不脫水干燥

膜塊維護(hù)

Ü初次使用

組出廠前,螺母已扭好,運(yùn)行之前如果發(fā)現(xiàn)個(gè)別螺母有松動(dòng),應(yīng)將所有螺母再次調(diào)整到20 ft-1bs,*大不超過25 ft-1bs.

Ü長(zhǎng)期維護(hù)

定期檢查螺拴扭矩,必要時(shí)作調(diào)整

系統(tǒng)清洗

Ü濃水側(cè)結(jié)垢清洗

方法1 5%檸檬酸溶液

方法2 3%HCL溶液

Ü淡水側(cè)結(jié)垢清洗

方法 1%NaOH+5%NaCl溶液

Ü**清洗

方法 1% 過氧乙酸溶液

EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護(hù)：故障分析

Ü產(chǎn)水水質(zhì)差

1. 原因：濃水出入口壓力與純水出入口壓力接近處理方法，節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求2. 現(xiàn)象：電壓較高而電流很低

原因:正負(fù)極接反

處理方法:切斷電源,核對(duì)接線

3. 現(xiàn)象:產(chǎn)水水質(zhì)差,而入水電導(dǎo)率顯示較低

原因:檢測(cè)入水,CO2是常見影響因素

處理方法：脫氣

4. 原因：電流較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求

5.現(xiàn)象：電流不變，電壓較運(yùn)行初期升高

原因: 膜組件污染

處理方法:清洗

6.原因:儀表故障

處理方法：檢修儀表

極水流量低

1. 原因：入口壓力較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求

2. 現(xiàn)象：投運(yùn)初期，流量過低

原因: 碎屑堵塞

處理方法:反向沖洗

3.原因:膜組件發(fā)生污染

處理方法：清洗

Ü濃水流量低

1、原因：入口壓力較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標(biāo)準(zhǔn)要求

2、現(xiàn)象：投運(yùn)初期，流量過低

原因: 碎屑堵塞

處理方法:反向沖洗

3、原因:膜組件發(fā)生污染

處理方法：清洗