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高真空磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱杭州利正科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地杭州市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2025/8/19 8:13:14
  • 訪問次數(shù)46
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杭州利正科學(xué)儀器有限公司,是一家專業(yè)從事實(shí)驗(yàn)室分析儀器、生命科學(xué)儀器等產(chǎn)品銷售與技術(shù)服務(wù)的企業(yè),坐落于優(yōu)美的西子湖畔,注冊(cè)資金100萬元。公司有日立分析儀器、布魯克紅外光譜系列產(chǎn)品、浙江華源搖床系列產(chǎn)品、上海培清凝膠成像\化學(xué)發(fā)光系列產(chǎn)品、上海米開羅那手套箱系列產(chǎn)品、INSTEC冷熱臺(tái)系列產(chǎn)品、IVEUM電化學(xué)工作站系列產(chǎn)品等等的區(qū)域代理權(quán),涵蓋化學(xué)、生物、材料等學(xué)科。 公司堅(jiān)持以顧客利益為服務(wù)宗旨、以產(chǎn)品質(zhì)量為立足之本、以技術(shù)支持為堅(jiān)強(qiáng)后盾,以誠信經(jīng)營和優(yōu)質(zhì)服務(wù)為主導(dǎo)、以過硬的質(zhì)量保證為支撐、以高度的敬業(yè)精神為助推,希望在市場(chǎng)實(shí)踐中以的速度不斷發(fā)展壯大,從而得到業(yè)界的認(rèn)可與好評(píng)。
科學(xué)儀器
1、適用:大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。 2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途: ?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價(jià)格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低; ?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等; ?鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等; ?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
高真空磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

名稱:高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
品牌:泰科諾
型號(hào):JCP500
產(chǎn)地:北京

1、適用:大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途

?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用;占地面積小,價(jià)格便宜,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;

?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等;

?鍍膜示例:銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等;

?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

型號(hào) JCP500
真空腔室結(jié)構(gòu) 立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸 Φ500×H420mm
加熱溫度 室溫~500℃
濺射方式 上下濺射可選
旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) Φ150mm
膜厚不均勻性 Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0%
濺射靶/蒸發(fā)電極 Φ3英寸磁控靶3支,兼容DC/MF/RF濺射
工藝氣體 2~3路氣體流量控制
控制方式 PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng)
占地面積 (主機(jī))L1900×W800×H1900mm
總功率 ≥10KW

關(guān)鍵詞:傳感器
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